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            等離子干蝕刻

            簡要描述:等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發離子與材料的碰撞而發生的,無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

            • 產品型號:
            • 廠商性質:經銷商
            • 更新時間:2024-07-10
            • 訪  問  量:844

            詳細介紹

            品牌其他品牌應用領域環保,化工,電子/電池

            等離子干蝕刻介紹:

            乾蝕刻又被稱為等離子干蝕刻,是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於激發離子與材料的碰撞而發生的,無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。它比一般濕式蝕刻製程更具等向性或非等向性,有助於減少蝕刻的失誤率。

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            由於等離子乾蝕刻比濕蝕刻具有等向性蝕刻以創建高深寬比結構的特能力,因此目前在印刷電路板和半導體製造製程中皆使用乾蝕刻。且此過程是安全的,無對環境有危害性。乾蝕刻還適合於大規模生產,同時仍具有合理的尺寸。

            我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。




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