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            • 磁控共濺鍍設備
              磁控共濺鍍設備

              磁控共濺鍍設備是指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍,濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料,通過分別優化每一支磁控濺鍍槍(靶材)的功率來控制薄膜品質,其薄膜厚度取決於濺鍍時間。

              更新時間:2024-07-10型號:訪問量:738
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            • 磁控濺鍍
              磁控濺鍍

              磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。

              更新時間:2024-07-10型號:訪問量:569
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