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電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

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電子束光刻系統(tǒng)在半導體制造中的具體應用有哪些？德國電子束曝光工藝流程是怎樣的？深硅刻蝕解鎖MEMS與功率器件新可能卡爾蔡司電子顯微鏡的維護和保養(yǎng)要求是什么？看DNA遺傳分析檢測用什么顯微鏡等離子刻蝕機是一種利用等離子體來刻蝕材料的設備。其工作原理是怎么樣的？

詳細介紹

品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子/電池

超高真空電子束蒸鍍設備介紹

超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環(huán)境對於科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍，SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構，使用陶瓷培林旋轉，並在內部做水冷循環(huán)來保護機構以確保長時間運轉的穩(wěn)定性。

超高真空電子束蒸鍍設備應用領域	腔體
光學材料研究(LED/Laser Diode)。光電元件。半導體元件。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。腔體的極限真空度約為10-10Torr。
配置和優(yōu)點	選件
客製化的基板尺寸，最大直徑可達8吋晶圓。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源（1/2/4/6坩堝）。自動鍍膜系統(tǒng)。具有順序操作或共沉積的多個電子束源。基板具有冷卻（液態(tài)氮溫度低至-70°C）或加熱（溫度最高800°C）等功能。	可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發(fā)源、等離子清潔...。