很黄很黄的网站免费的,久久99精品免费视频,久久国产精品免费一区

<option id="3g4cf"></option>

<rt id="wwugm"><tr id="wwugm"></tr></rt><nav id="wwugm"></nav>

<rt id="wwugm"></rt>

批量式電漿輔助氣相沉積設備

簡要描述：批量式電漿輔助氣相沉積設備為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。

產(chǎn)品型號：

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

更新時間：2024-07-10

訪問量：757

產(chǎn)品分類

Product Category

查看全部

探秘化學氣相沉積系統(tǒng)：如何“沉淀”高科技新材料？原子層沉積和磁控濺射的區(qū)別看完本篇你就會對化學氣相沉積系統(tǒng)有更多了解偏光原理及應用奧林巴斯SZ51 體視顯微鏡為什么可屈光度調(diào)節(jié) 全自動熒光掃描光學顯微鏡的基本原理

詳細介紹

品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子/電池

批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。

此系統(tǒng)為專對派瑞林(Parylene)所設計，其腔體內(nèi)部具有公自轉(zhuǎn)知特性，並批量式生產(chǎn)。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式電漿輔助氣相沉積設備參數(shù)：

應用領域	腔體
醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜封裝、絕緣防刮顯示屏	客製化的腔體尺寸，取決於基板尺寸和其應用通過使用水冷、水熱系統(tǒng)或加熱器來控制腔體溫度
配置和優(yōu)點	選件
客製化的基板多載片優(yōu)異的薄膜均勻性小於+-3% 精準流量控制器，氣體分佈高度均勻使用電容式藕荷電漿(CCP)