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            激光 分子束外延系統(tǒng)

            簡要描述:激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統(tǒng)適用于多種有機(jī)、無機(jī)薄膜的制備,尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點(diǎn)、多元素(特別是含有氣體元素時)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備。

            • 產(chǎn)品型號:
            • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
            • 更新時間:2024-07-10
            • 訪  問  量:474

            詳細(xì)介紹

            品牌其他品牌腔體尺寸球形腔體,直徑:400 mm
            樣品尺寸1 英寸或 2 英寸向下兼容樣品加熱輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃
            RHEED 兩級差分,30 kV靶臺操控6 靶位,1 英寸靶托,公自轉(zhuǎn)設(shè)計
            抽氣泵組進(jìn)口:Pfeiffer分子泵,685 l/s Leybold干泵,14.5 m3/h氣路進(jìn)口:質(zhì)量流量計MKS,50 / 100 sccm
            控壓方式手動角閥/漏閥控壓極限真空5 x 10-9 mbar
            光路支架可根據(jù)用戶現(xiàn)場定制軟件控制動作程序控制,軟件編程控制工藝,設(shè)備全套互鎖

            激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗儀器,綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實現(xiàn)原位實時監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統(tǒng)適用于多種有機(jī)、無機(jī)薄膜的制備,尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點(diǎn)、多元素(特別是含有氣體元素時)、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備。此外,它還可以同時進(jìn)行激光與物質(zhì)相互作用及成膜過程的物理、化學(xué)觀測,為探索、開發(fā)新材料、新器件及相關(guān)基礎(chǔ)研究提供了一個強(qiáng)有力的平臺。

            以上內(nèi)容僅供參考,如需更多信息,可咨詢激光分子束外延系統(tǒng)方面的專家。激光分子束外延系統(tǒng)的核心部分是激光脈沖沉積系統(tǒng),該系統(tǒng)使用高能量的脈沖激光束照射靶材,使靶材表面瞬間達(dá)到高溫高壓狀態(tài),進(jìn)而蒸發(fā)、離化靶材原子或分子,形成高溫、高密度的等離子體羽輝。這些離子、原子或分子在羽輝中迅速冷卻并定向傳輸?shù)交砻妫罱K沉積形成薄膜。

            激光 分子束外延系統(tǒng)的另一個重要組成部分是超高真空系統(tǒng),該系統(tǒng)能夠在生長過程中保持真空度,有效防止雜質(zhì)和污染物對薄膜生長的影響。同時,該系統(tǒng)還配備了多種原位監(jiān)測和表征手段,如反射式高能電子衍射儀(RHEED)、光學(xué)顯微鏡、橢偏儀等,可以對薄膜生長過程進(jìn)行實時監(jiān)控和精確控制。

            此外,激光分子束外延系統(tǒng)還具有高度的靈活性和可擴(kuò)展性。通過改變靶材和基片的種類,以及調(diào)整激光參數(shù)和生長條件,可以制備出各種不同類型、不同性能的薄膜材料。同時,該系統(tǒng)還可以與其他先進(jìn)的實驗設(shè)備和技術(shù)相結(jié)合,如原子力顯微鏡(AFM)、掃描隧道顯微鏡(STM)等,以進(jìn)一步探索薄膜材料的物理和化學(xué)性質(zhì)。

            總之,激光分子束外延系統(tǒng)是一種功能強(qiáng)大、應(yīng)用廣泛的薄膜制備技術(shù),它在材料科學(xué)、物理學(xué)、電子學(xué)等領(lǐng)域的研究和應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,激光分子束外延系統(tǒng)將在更多領(lǐng)域展現(xiàn)出的優(yōu)勢和潛力。


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